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    四川啟動(dòng)實(shí)施集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項

    字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2023-10-16  瀏覽次數:2114
    核心提示:近日,四川省科學(xué)技術(shù)廳啟動(dòng)實(shí)施四川省先進(jìn)材料、裝備制造、電子信息等六大優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域首批3個(gè)重大科技專(zhuān)項,推進(jìn)關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)、重大創(chuàng )新產(chǎn)品研發(fā)、成果轉移轉化示范。
     近日,四川省科學(xué)技術(shù)廳啟動(dòng)實(shí)施四川省先進(jìn)材料、裝備制造、電子信息等六大優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域首批3個(gè)重大科技專(zhuān)項,推進(jìn)關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)、重大創(chuàng )新產(chǎn)品研發(fā)、成果轉移轉化示范。

    四川啟動(dòng)實(shí)施集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項

    據介紹,首批重大科技專(zhuān)項為:一是釩鈦稀土重大科技專(zhuān)項;二是軌道交通重大科技專(zhuān)項;三是集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項。

    其中,集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項圍繞集成電路、新型顯示兩大領(lǐng)域,布局14項重大攻關(guān)任務(wù),著(zhù)力研發(fā)15個(gè)重大創(chuàng )新產(chǎn)品,突破36項關(guān)鍵核心技術(shù)。新型顯示支持方向和重點(diǎn)如下:

    全面屏柔性AMOLED顯示技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。面向柔性AMOLED全面屏超高屏占比、無(wú)開(kāi)口屏下攝像功能等需求,開(kāi)展柔性AMOLED面板多種像素密度混合驅動(dòng)設計、研制工藝和測試技術(shù)研究;研究攝像頭對應區域高像素密度、高M(jìn)DL透過(guò)率、高亮度和高壽命顯示等關(guān)鍵技術(shù),相關(guān)指標滿(mǎn)足產(chǎn)業(yè)化要求。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成全面屏產(chǎn)品2~3個(gè)。技術(shù)成果應用于新一代屏下攝像手機,形成真正意義上的全面屏。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)1000萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    高畫(huà)質(zhì)低功耗可折疊柔性AMOLED顯示技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。開(kāi)展柔性AMOLED超薄堆疊結構仿真與設計,降低功耗的同時(shí)不影響顯示畫(huà)質(zhì);研究開(kāi)發(fā)超薄可彎折高折射率材料,滿(mǎn)足厚度需求與信賴(lài)性測試標準;開(kāi)展彎折堆疊設計研究,通過(guò)優(yōu)化堆疊設計,避免EES結構與現有堆疊發(fā)生分層、斷裂等。研發(fā)可折疊柔性AMOLED顯示產(chǎn)品,其彎曲半徑、功耗、顯示MDL反射率和厚度、常溫動(dòng)態(tài)彎折、溫濕度條件動(dòng)態(tài)彎折等技術(shù)指標性能優(yōu)異。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個(gè)。技術(shù)成果應用于高分辨率超薄柔性折疊終端屏,支持大尺寸柔性顯示終端制造。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)1000萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    8K激光移軸變焦投影關(guān)鍵技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。開(kāi)展基于振鏡組合DLP芯片的方案設計,縮小光學(xué)系統體積;研究移軸鏡頭技術(shù),實(shí)現影像位置電動(dòng)調整;突破鏡頭自動(dòng)調焦技術(shù),解決調整后不同位置畫(huà)質(zhì)和解析度變差的問(wèn)題;突破振鏡自動(dòng)相機優(yōu)化技術(shù),實(shí)現振鏡參數最優(yōu)化,確保像質(zhì)最佳。研發(fā)高解析、高亮度、高色域8K激光移軸長(cháng)焦投影顯示產(chǎn)品。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè)。技術(shù)成果應用于激光投影顯示生產(chǎn)企業(yè),并實(shí)現批量化生產(chǎn)。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    超低散斑激光顯示光學(xué)屏技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。研究激光顯示中復合散斑的自相關(guān)特性和功率譜分布,建立復合散斑模型和實(shí)驗方法,突破光學(xué)屏領(lǐng)域散斑抑制技術(shù);建立光學(xué)屏融合架構的光學(xué)仿真、光利用效率的評價(jià)體系和測試方法,為行業(yè)提供更高效評價(jià)標準,促進(jìn)行業(yè)技術(shù)升級;研究基于微納結構的表面光整形技術(shù),突破現有光擴散技術(shù)的能量利用極限,提升屏幕的光利用效率,實(shí)現光機小型化、節能化的環(huán)保需求;開(kāi)展基于粒子的光散射、吸收和輻射模型研究,實(shí)現更優(yōu)異的光散射分布,達到超清與均勻畫(huà)質(zhì)的視覺(jué)效果。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,制定行業(yè)標準1項,形成產(chǎn)品2~3個(gè)。大尺寸高分辨率激光投影顯示屏產(chǎn)品在家用環(huán)境、影院環(huán)境等場(chǎng)景取得良好應用示范效果。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    高世代產(chǎn)線(xiàn)用高精度掩膜版技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。開(kāi)展掩膜版涂布技術(shù)研究,掌握G6及以上產(chǎn)線(xiàn)高精度光阻涂布技術(shù),實(shí)現該尺寸領(lǐng)域光阻涂布技術(shù)自主化;開(kāi)展高精度激光直寫(xiě)技術(shù)研究,掌握高PPI圖形Mura控制技術(shù)、多圖形混版Mura控制技術(shù);開(kāi)展圖形精度測量及校正技術(shù)研究,掌握高精度DCM補償技術(shù);開(kāi)展高精度缺陷修復技術(shù)研究,掌握高PPI圖形、復雜圖形修復技術(shù)。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個(gè),研究成果應用于G6及以上高精度二元及半色調掩膜版的生產(chǎn)制造。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    AMOLED用磷光發(fā)光材料國產(chǎn)化關(guān)鍵技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。開(kāi)展OLED發(fā)光材料有機分子發(fā)光過(guò)程激發(fā)態(tài)調控、分子設計、發(fā)光器件優(yōu)化等方面研究,完成OLED有機發(fā)光材料紅、綠、藍發(fā)光和主體材料結構研制并滿(mǎn)足工業(yè)應用,形成具有完全自主知識產(chǎn)權的有機磷光發(fā)光材料的國產(chǎn)化供應。

    (2)考核指標。突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè),發(fā)光材料應用于OLED生產(chǎn)廠(chǎng)家。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)760萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。

    大幅寬PMMA偏光片基膜關(guān)鍵技術(shù)研究

    (1)研究?jì)热。開(kāi)展大寬幅PMMA基膜制備關(guān)鍵技術(shù)研究,掌握光學(xué)樹(shù)脂共擠技術(shù)和共擠特種配方,克服PMMA材料脆性缺陷導致的邊部破膜問(wèn)題;掌握寬幅雙向同步光學(xué)拉伸技術(shù),在2.5米大寬幅、超薄、超高運行機速情形下,位相差等光學(xué)性能均一。

    (2)考核指標。研制具有低透濕性、高透過(guò)率、位相差均一的大寬幅偏光片基膜,突破關(guān)鍵技術(shù)3項,申請或授權發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè),產(chǎn)品支撐新型顯示光學(xué)薄膜核心膜材國產(chǎn)化制備。在大寬幅偏光片生產(chǎn)廠(chǎng)家取得應用。

    (3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項,支持專(zhuān)項資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報,鼓勵產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報,自籌經(jīng)費與申請專(zhuān)項資金比例不低于2:1。(來(lái)源:四川省科學(xué)技術(shù)廳)

     
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